美國密蘇里大學（University of Missouri）研究團隊成功開發一種利用中子輻射進行殺菌的創新療法，旨在大幅降低手術植入物的感染風險。這項名為「硼中子療法」（boron neutron therapy）的新技術，可望解決傳統抗生素難以清除生物薄膜（biofilm）內細菌的困境，為醫療感染防治帶來重大突破。
根據研究團隊指出，手術植入物一旦發生感染，細菌常會藏匿於形成的生物薄膜後方，使得抗生素藥效難以觸及，最終可能導致植入物必須移除，對患者造成二次傷害。密蘇里大學醫學院骨科主任 James Stannard 表示：「我們創造了一種能徹底殺死細菌的植入物滅菌方法，這對臨床治療而言可能是巨大的一步。」
這項技術的原理是在手術植入物上塗佈一層硼，然後利用中子束照射，以殺滅細菌。研究團隊由骨科外科醫師、工程師、獸醫學專家及反應爐操作專家等多學科成員組成，並依賴 University of Missouri Research Reactor Center（MURR）提供所需的強大中子束。密蘇里大學工程學院教授 John Gahl 強調，儘管這項技術在廣泛應用前仍有許多路要走，但他們對其未來發展抱持樂觀態度。
密蘇里大學團隊已於2019年為此項硼中子療法申請專利，並在小鼠模型試驗中觀察到令人鼓舞的結果後，近期已成功取得專利。值得一提的是，這項療法在芬蘭和日本也展現出用於更精準癌症治療的潛力。然而，目前美國大多數醫院尚未普及中子束加速器設備，研究團隊未來可能需要尋求產業夥伴合作，以探討硼塗層植入物的可行性，並將中子療法轉化為實用的臨床選項。
